在大面积磁控溅射玻璃镀膜中，使用等离子清洗技术可以有效地清洁靶面和阳极表面，彻底解决使用平面磁控溅射阴极进行反应性溅射时的“靶中毒”和“阳极消失”两个问题。
本发明公开了真空玻璃等离子体清洗方法，该方法包括以下步骤：1）、将与激发电源相连的两个激发电极作用在真空玻璃上；2）、通过真空玻璃的抽气口将真空腔抽至设定压力；3）、打开激发电源，使产生的等离子体轰击玻璃内表面和封装层内表面，使吸附在其上的有机污染物脱离出来；4）、将步骤3）中轰击产生的气体抽走；5）、重复2。4的步骤；6）、持续抽真空到设定真空值后，对抽气口进行密封，完成真空玻璃制造。
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