瓷质抛光砖打蜡后要获得非常光亮的表面以及优良的防污效果,就必须在打蜡过程中使抛光砖表面各点处的抛磨次数尽可能一致。但在实际的打蜡过程中,很容易产生抛磨不均匀现象。本文以一种新型抛光砖打蜡机的抛磨装置为研究对象,建立抛磨运动的数学模型,利用Matlab软件进行抛磨运动仿真,分析不同抛磨运动参数对抛磨均匀性特性的影响,对打蜡机运动参数的确定和打蜡质量的研究具有参考价值。
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