装饰画这种艺术表现形式在当今社会中与人们的生活联系越来越密切了,从宾馆酒店到繁华的商业区、从工作地点到温馨的小家,几乎在人们出现的场所都会有它的存在,它点缀着人们的生活,丰富着人们的文化精神层面。木刻版画,从中国新兴木版画开始发展到现在,经历了由宣传为主到纯艺术表现性的转变。在西方,木版画也从单纯的木版面形式转变为多版种材料制作。对于装饰画而言,它的表现形式和制作材料也是极为丰富的,本文将
研究应用O2反应离子刻蚀(RIE)直接深刻蚀商用有机玻璃(PMMA)片,以实现微结构的三维微加工,工艺简单,加工成本较低,为微器件的高深宽比加工提出了新方法。试样采用Ni作掩膜,以普通的光刻胶曝光技术和湿法刻蚀法将Ni掩膜图形化。工作气压、刻蚀功率等工艺参数对刻蚀速率影响较大。在刻蚀过程中,掩膜上的金属粒子会被刻蚀气体离子轰击而溅射散落出来,形成微掩膜效应。利用这种RIE技术,在适当的溅射功率及气压下,刻蚀速率较快,且获得了较陡直的微结构图形,刻蚀深度达120μm。
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