. . . 靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。 金属靶材一般是由高纯金属制成。 高纯铝靶材就是 工业上常用的耙材中的一种。对于金属靶材， 一般要求 表面需要数控加工， 越光滑越好。溅 镀后的模压盘片能够在播放器上读出， 为确保读出信号的强度， 需要溅镀金属层的反射率达 到 80％。靶材主要应用在 ITO 导电 玻璃、DWDM（高 密度多工分配器）、 CD-R、CD-RW、DVD、 EMI（抗电 磁波干扰）、 OLED、磁性材料、感测元件、压电材料、硬化膜、高温超导等产品 上。靶材主要有金属类、 合金类、氧化物类等等。 目前靶材主要制造商包括有德国 HERAEUS， 占率达 60%，第二位是日商 HITACHI占有率 23%，第三位为光洋科占 10%，第四位是日商 Nikko 占 6﹪。溅镀靶材大厂 PLANSEE至 2010 年于奥地利扩厂投资将达 1亿欧元 充份供应全球大 尺寸 T
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